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半导体洁净室湿度控制的重要性

湿度控制是确保无尘车间高效运作的关键因素，其中相对湿度是一个重要的环境控制指标。在半导体无尘车间和洁净室中，典型的相对湿度控制目标范围设定在30至50%，且允许的误差范围非常狭窄，如光刻区或远紫外线处理区甚至要求更严苛，而其他区域则可适度放宽至±5%。然而，近年来随着技术要求的提高，维持这一处理空气......

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